Máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón de película delgada al vacío

Breve descripción:

La técnica de pulverización de magnetrón al vacío es el uso de la superficie del electrodo bipolar hembra con el campo magnético del electrón en la deriva de la superficie del cátodo, al establecer el campo eléctrico de la superficie del objetivo perpendicular al campo magnético, el electrón aumenta la carrera, aumenta la tasa de ionización del gas, mientras que las partículas de alta energía gasean y pierden energía después de la colisión y, por lo tanto, bajan la temperatura del sustrato, completan el recubrimiento en un material no resistente a la temperatura.