Sistema de pulverización catódica de magnetrón en línea
La máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón en línea es principalmente CC (o MF) El recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón se puede adaptar a una amplia gama de objetivos, tales como: cobre, titanio, cromo, acero inoxidable, níquel y otros materiales metálicos que pueden recubrirse mediante un proceso de pulverización catódica puede mejorar la adherencia, la reproducibilidad, la densidad, la uniformidad y otras características de la película.
- una.Las características y parámetros básicos.
- b.la estructura de la línea horizontal se puede realizar simultáneamente revestida en un lado
- C.eficiencia de producción, las velocidades más rápidas de hasta 1 min / latido
- d.diseño modular, fácil mantenimiento
- mi.madurez del proceso de recubrimiento, alto rendimiento
- F.Los cátodos de pulverización catódica de magnetrón de CC pueden variar según los requisitos del cliente
- gramo.El sistema de vacío consta de una bomba mecánica, bombas Roots, bombas de difusión (bomba molecular) Composición
- H.El tamaño del cuerpo de la línea puede variar según los requisitos del cliente
- 1) Los materiales del cuerpo de la cámara de vacío utilizaron SUS304, puliendo un tratamiento de pared de la cámara de vacío, el procesamiento de perlas de pulido por pulverización de la pared exterior.
- 2) El uso de una válvula de compuerta independiente entre la cámara de vacío y la válvula de aleta aparte puede cortar y estabilizar el gas de proceso de manera efectiva.En la actualidad, nuestra empresa adopta el diseño de válvula de aleta, sella mejor y es más duradero que la válvula de aleta común doméstica actual.
- 3) La transmisión utiliza una guía magnética para proteger la estabilidad de la unidad.Para cada velocidad de toda la línea de producción que utiliza el motor VVVF, se puede ajustar la velocidad de funcionamiento.
- 4) Sistema de control eléctrico: control automático de pantalla táctil y PLC, diálogo hombre-máquina para lograr el sistema de visualización de datos, parámetros operativos y tecnología de control
- 1) Presión de vacío final: 6 × 1 0E-4 Pa
- 2) el ciclo medio de producción: según el producto determinado
- 3) El tamaño del soporte del sustrato: se puede personalizar de acuerdo con los requisitos de
- 4) Uniformidad de la película: ± 3 % de tecnología de campo móvil avanzada ha mejorado enormemente la utilización del objetivo
- El diseño del calentador segmentado favorece la optimización del proceso.
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