Máquina de deposición de arco catódico con revestimiento al vacío de PVD para herramientas de corte

Breve descripción:

La máquina de deposición de arco catódico con revestimiento al vacío de PVD ha utilizado la fuente de iones de arco eléctrico de cátodo recientemente desarrollada.Esta nueva fuente de arco puede reducir efectivamente la cantidad y el tamaño de las partículas durante el proceso.Además, funciona de manera estable y puede mantener el trabajo durante mucho tiempo con poca electricidad.Por lo tanto, la película de recubrimiento se conecta bien a la base y se caracteriza por una superficie lisa y una alta microdureza, etc.

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Detalle del producto

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La máquina de deposición por arco catódico con recubrimiento al vacío de PVD puede recubrir muchos tipos de piezas de trabajo (herramienta y troquel, calibre y herramienta de corte, cojinete y anillo de pistón, etc.). Hay múltiples tipos de película de recubrimiento (metal simple o aleación).Se puede utilizar no solo para equipos de revestimiento para película funcional para prolongar la vida útil del producto y también como revestimiento decorativo para mejorar la apariencia de los productos.

Características

● Las gotas, un defecto importante de la deposición por arco catódico, se minimizan con éxito con nuestra máquina de recubrimiento iónico por arco PVD
● Película densa y gruesa con una superficie extremadamente lisa
● Alta tasa de deposición por alta densidad de energía y alta ionización
● Películas multicapa y películas multiproceso son posibles

La máquina de deposición por arco catódico con recubrimiento al vacío de PVD puede depositar TiN, CrN, AITiN, AICrN, TiCN, TiAICrN, TiAISiN, DLC, recubrimientos súper duros multicapa, que se utilizan en la industria de moldes de precisión (troqueles, moldes de corte, moldes estándar, etc.), industria de herramientas (taladro, aleaciones duras, fresas, brochas, machos de roscar y cortadores de engranajes, etc.) y la industria del automóvil (pistón, anillos de pistón y piezas, etc.).

Solicitud

Equipado con fuente de arco múltiple/fuente de arco de plano rectangular y fuente de alimentación polarizada, pistola de cátodo hueco múltiple opcional.Alta tasa de deposición, alta tasa de ionización, fácil operación.Densidad de plasma uniforme y reactividad estable con fuente de alimentación de polarización de red.
Tipo de película: TiN, TiC, TiCN, TiAIN, TiCrN, TiCrCN, TiAICrN, película superdura múltiple, etc.
Recubrimientos Característica: Recubrimientos fuertes compacidad y adhesivo, recubrimientos uniformes, alta dureza.
Nota: Especialmente diseñado de acuerdo con los productos de los clientes y los requisitos del proceso.

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